Opis tarczy 4N HfO2 z płytką tylną Cu
Tarcza do napylania 4N HfO2 z miedzianą płytką tylną to krytyczny,-materiał o wysokiej wydajności do osadzania cienkich-warstw, szeroko stosowany w takich dziedzinach, jak optyka, półprzewodniki i mikroelektronika. Składa się głównie z docelowej bryły z dwutlenku hafnu (HfO₂)-o czystości 99,99%-połączonej w specjalistycznym procesie z-miedzianą płytką nośną o wysokiej czystości. Ten docelowy 4N HfO2 reprezentuje-najwyższą jakość materiału powłokowego charakteryzującego się zaawansowanym poziomem integracji technologicznej. Łącząc ceramikę z dwutlenku hafnu o ultra-wysokiej-czystości-służącą jako materiał funkcjonalny-z miedzią-o wysokiej czystości-działającą jako wsparcie strukturalne-z powodzeniem spełnia rygorystyczne wymagania nowoczesnych procesów precyzyjnego powlekania w zakresie czystości, wydajności, stabilności i niezawodności źródeł rozpylania. Co więcej, jego konfigurowalne specyfikacje zwiększają możliwości adaptacji w różnych scenariuszach zastosowań i platformach sprzętowych, czyniąc go podstawowym materiałem niezbędnym do napędzania postępu technologicznego w branżach takich jak optyka i półprzewodniki.
Zastosowania tarczy 4N HfO2 z płytą tylną Cu
Powłoki optyczne: wykorzystywane do wytwarzania-wysokich urządzeń optycznych, w tym-powłok antyrefleksyjnych, warstw dielektrycznych o-refrakcji-o wysokim współczynniku załamania światła, filtrów optycznych, powłok elementów laserowych i-odpornych na-laserowe{5}}folie ochronne.
Półprzewodniki i mikroelektronika: służy jako materiał dielektryczny o wysokiej-dielektrycznej-bramce stałej w zaawansowanych urządzeniach półprzewodnikowych; wykorzystywany także do osadzania funkcjonalnych cienkich warstw w mikro-elektro-układach mechanicznych (MEMS) i innych komponentach elektronicznych.
Inne-zaawansowane dziedziny: znajduje także istotne zastosowania w-komunikacji światłowodowej, urządzeniach energetycznych i eksperymentach naukowych.
Specyfikacje tarczy 4N HfO2 z płytą tylną Cu
Skład: HfO₂
Czystość: większa lub równa 99,9%
Kształt: dyski lub-wykonane na zamówienie
Średnica: 2", 3", 4", 5", 6" lub dostosowana
Grubość: 0,25 cala, 0,125 cala lub dostosowana
Rodzaj obligacji: In
Kontrola jakości i testowanie tarczy 4N HfO2 z płytką tylną Cu

Często zadawane pytania dotyczące tarczy 4N HfO2 z płytką tylną Cu
Czy jesteś fabryka lub aproducent?
Odp.: Tak, jesteśmy obiektem docelowym 4N HfO2 z fabryką płyt tylnych Cu, ale zazwyczaj korzystamy z naszej firmy handlowej do obsługi działalności za granicą. Wygodniej będzie otrzymać przekaz i zorganizować wysyłkę.
Jaka jest metoda dostawy?
Odp.: Zazwyczaj wysyłamy obiekt docelowy 4N HfO2 z płytą tylną Cu za pośrednictwem firm UPS, DHL lub FedEx. Możemy również wysłać drogą morską do portu morskiego lub drogą lotniczą na najbliższe lotnisko.
Dlaczego docelowy 4N HfO2 z płytą tylną Cu jest tak-opłacalny?
Odp.: W procesie produkcyjnym-od{1}}od początku do końca eliminujemy pośredników, a surowiec pozyskujemy bezpośrednio z jego źródła.
Czy przeprowadzasz punktową kontrolę jakościprodukty?
Odp.: na pewno 100% pełnej kontroli. Wszystkie niekwalifikowane cele 4N HfO2 z tylną płytką Cu są odrzucane.
Jak zapewnić termin realizacji?
Odp.: Od przygotowania materiału po obróbkę i wreszcie pełną kontrolę. Każdy etap produkcji jest ściśle monitorowany i kontrolowany, aby zapewnić dokładny czas dostawy.
Jakie jest MOQ tarczy 4N HfO2 z płytą tylną Cu?
Odp.: Zależy od ilości docelowego 4N HfO2 z płytką tylną Cu; ogólnie rzecz biorąc, brak limitu MOQ.
Jak zapłacićprodukty?
Odp.: Akceptowany będzie przelew bankowy (T/T).
Jaki jest czas dostawy?
Odp.: Około 7–20 dni, co zależy od ilości i produkcji tarczy 4N HfO2 z płytą tylną Cu.
Jaki to rodzaj pakietu?
Odp.: Ogólnie rzecz biorąc, używamy pudełek kartonowych lub sklejek z materiałem ochronnym wewnątrz, aby zapewnić bezpieczeństwo tarczy 4N HfO2 z płytą tylną Cu.
Jaki jest czas realizacji?
Odp.: Od złożenia zamówienia do otrzymania ładunku zajmie około 10-25 dni.

Popularne Tagi: Cel 4n hfo2 z płytą tylną Cu, Chiny Cel 4n hfo2 z dostawcami płyty tylnej Cu, fabryka




