Materiał powłoki PVD
-
Pellet molibdenu (Mo)Molibden, srebrzystobiały i wyjątkowo twardy metal przejściowy, wyróżnia się niezwykłą trwałością, wytrzymałością i odpornością na korozję i ekstremalne temperatury. Miększy i bardziej ciągliwy...Więcej
-
Granulki niobu (Nb)Niob jest pierwiastkiem chemicznym. Symbol chemiczny Nb, liczba atomowa 41, masa atomowa 92,90638, należy do grupy VB układu okresowego. Pierwiastek metaliczny. Niob pochłania gazy, jest stosowany...Więcej
-
Pellety niklu (Ni)Folia niklowa charakteryzuje się dobrą przewodnością, odpornością na korozję i plastycznością, dzięki czemu jest szeroko stosowana w przemyśle półprzewodników i mikroelektroniki.Więcej
-
Cel rozpylania tlenku cyny (SnO2)Cel tlenku cyny (SnO2) jest ważnym nieorganicznym materiałem niemetalicznym. Ze względu na swoje unikalne właściwości fizyczne i chemiczne odgrywa ważną rolę w wielu dziedzinach high-tech. Jego...Więcej
-
Cel rozpylania tlenku tantalu (Ta2O5)Tarcza rozpylająca z tlenku tantalu może być stosowana w półprzewodnikach, chemicznym osadzaniu z fazy gazowej (CVD), fizycznym osadzaniu z fazy gazowej (PVD) wyświetlaczach i zastosowaniach...Więcej
-
Cel rozpylania tlenku tytanu (TiO2)Dwutlenek tytanu (TiO2) jest najszerzej stosowanym białym pigmentem, na przykład w farbach. Ma wysoką jasność i bardzo wysoki współczynnik refrakcji (2,609 dla rutylu).Więcej
-
Cel rozpylania tlenku cynku (ZnO)Cel rozpylania tlenku cynku (ZnO) używany do rozpylania magnetronowego metodą fizycznego osadzania z fazy gazowej. Dostępne są różne średnice, grubości i czystości, aby spełnić wymagania...Więcej
-
Cel rozpylania fluorku magnezu (MgF2)Fluorek magnezu jest białą krystaliczną solą i jest przezroczysty w szerokim zakresie długości fal, z zastosowaniami komercyjnymi w optyce, która jest również wykorzystywana w teleskopach...Więcej
-
Cel rozpylania tlenku litu i kobaltu (LiCoO2)Tlenek litowo-kobaltowy jest strukturą warstwową, zapewniającą dwuwymiarowy tunel dla migracji jonów litowych. Cel rozpylania LiCoO2 jest doskonałym materiałem do produkcji baterii ze względu na...Więcej
-
Cel rozpylania tlenku molibdenu (MoO3)Tarcza rozpylająca z tlenku molibdenu może być stosowana w półprzewodnikach, chemicznym osadzaniu z fazy gazowej (CVD), fizycznym osadzaniu z fazy gazowej (PVD) wyświetlaczach i zastosowaniach...Więcej
-
Cel rozpylania tlenku magnezu (MgO)Tlenek magnezu w celach rozpylania jest głównie widoczny w tworzeniu szybkich filmów, zastosowaniu w mikroelektronice i przemyśle fotowoltaicznym, specyficznych procesach przygotowawczych i...Więcej
-
Cel rozpylania z dwusiarczku molibdenu (MoS2)MoSi2 jest strukturą tetragonalną. Jest to faza pośrednia o najwyższej zawartości krzemu w systemie stopu binarnego Mo-Si. Jest to związek międzymetaliczny Daltona o ustalonym składzie, szarym i...Więcej
Jesteśmy profesjonalnymi dostawcami materiałów do powlekania PVD w Chinach, specjalizującymi się w świadczeniu wysokiej jakości usług dostosowanych do potrzeb klienta. Serdecznie zapraszamy do zakupu materiałów do powlekania PVD w obniżonej cenie dostępnych w magazynie tutaj i otrzymania bezpłatnej próbki z naszej fabryki. W celu konsultacji cenowej skontaktuj się z nami.
